陽極氧化時間可根據電解液的質量濃度、溫度、電流密度和所需要的膜厚來確定。在相同條件下,隨著時間延長,氧化膜的厚度增加,空隙增多。但達到一定厚度后,生長速度會減慢下來,到后不再增加。彩色陽極
鉻酸陽極氧化經鉻酸陽極氧化得到的氧化膜厚度為2μm~5μm空隙率低,膜層質軟,耐磨性較差。由于鋁的溶解少,形成氧化膜后,零件仍能保持原來的精度和表面粗糙度,故該工藝適用于精密零件。下表是鉻酸陽極氧化工藝規范。
鋁的氧化過程
在常溫下,鋁會自然地與周圍空氣中的氧氣反應,形成一層氧化層。這個過程稱為鋁的自然氧化。自然氧化不斷地在表面上形成很薄的氧化層,形成一種保護層,這一層的厚度大概是2.5納米左右。然而,這層氧化層太薄,無法提供足夠的保護能力,因此如果需要更好的保護效果,就需要增加其保護層的厚度。這時候,我們就需要使用化學氧化法或電化學氧化法,通過將表面鋁蝕刻、暴露鋁表面,刺激鋁與氧氣的反應,使其形成一層更厚的氧化膜。
化學氧化法是在酸性或堿性溶液中使用氧化劑,如硫酸銅、等,來催化鋁與氧氣的反應。電化學氧化法則是在電解槽中,通過升高電位觸媒鋁在電解液中的分解,產生一層厚度相對較大的氧化層。電化學氧化法一般包括兩個步驟:氧化前處理和氧化處理。在氧化前處理階段,鋁表面被清潔和被蝕刻。在氧化處理階段,電解槽中注入的電流會使得鋁表面產生氧化反應,并在金屬表面上形成一層致密的氧化層。
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